上海微電子的7nm制程的光刻機

上海微電子的7nm制程的光刻機317 2022-01-12 00:26:36

這是一個誤區,其實生産28納米芯片和7納米芯片的光刻機可以是同一種光刻機,只是使用光刻機的方式有變化而已。台積電昔日就是用相同的浸入式ArF光源的DUV光刻機,生産出來了從28納米到7納米的所有芯片。只不過現在有了EUV光源的光刻機,在生産7納米芯片時效率更高,于是台積電就在許多工序改用了EUV光刻機,但並不是說浸入式ArF光源的DUV光刻機就不被使用到7納米芯片工藝的工序中了。

如此一來,這個問題就簡化成爲,只要上海微電子攻克了生産28納米的光刻機,理論上來說,通過工藝改進,不計成本的話,7納米芯片也是可以被生産出來的。這理論上也算是攻克了7納米的工藝吧。所以問題就變成了2025年前攻克28納米光刻機的可能性了。

真正7納米芯片的工藝問題是代工廠的責任,探索台積電已經走過的技術路線,用浸入式ArF光源的DUV光刻機的多次曝光工藝來生産7納米芯片。這就不是我們今天討論的關鍵了。

很顯然,2021年就不用指望了。因爲上海微電子的28納米光刻機沒有達到合格標准,需要2022年繼續努力了。但即便2022年這台光刻機達到了標准,獲得了通過,也還有一個嚴峻的問題擺在了上海微電子面前。那就是浸入式ArF光源的問題。現在這台樣機的光源,用的是日本進口的浸入式ArF光源。那麽,在日後量産的時候,這個光源能不能穩定供貨就是一個重大問題了。國內光源提供商“科益虹源”,已經拿出來了40w 4kHz ArF光源的樣機,但主流的ArF浸沒式光刻機需要60w 6kHz等級的光源,所以也就是說國內的光源目前還沒辦法代替進口光源了。

至此,這台上海微電子的樣機能不能變成批量生産的産品就非常不確定了,因爲關鍵子系統還處于攻關當中,無法確認研發出子系統的時間節點。

也就是說,現在上海微電子的這台28納米光刻機,就是走的殲20路子。時間不等人,殲20就不等渦扇15發動機了,先用進口的俄羅斯AL-31F發動機頂上用著。現在上海微電子可不就是先用日本光源頂上用著嘛。至于中國自己的光源,就等著啥時候能研發出來吧。

以目前的國際大環境,殲20如果還想用俄羅斯發動機,就還是能找到貨源的。但中國如果想獲得一個穩定的浸入式ArF光源的難度有多大?我想大家都明白。所以,這個浸入式ArF光源的緊迫性,甚至遠遠超過對渦扇15的需求,就肯定沒錯了。

也就是說,哪怕2022年,上海微電子攻克了這個28納米光刻機技術,但橫在量産前面的光源問題,能不能在2025年前解決呢?我想沒人知道吧。現在科益虹源的官網網站都打不開了,所以沒人知道他們的進展如何了,現在網上真是一個字兒都沒有。

所以,說什麽上海能不能在2025年前攻克7納米光刻機,僅僅一個光源問題就說明了一切。

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